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磁屏蔽组件 • 半导体设备专用


产品编号:半导体专用磁屏蔽件


产品名称:磁屏蔽组件 • 半导体设备专用


规  格:Customizable


产品备注:


产品类别:半导体精密钣金组件

产品介绍

坡莫合金钣金屏蔽件是以高磁导率坡莫合金板材为原材料,经激光切割、数控冲压、精密折弯、焊接等钣金成形工艺制成的磁屏蔽结构件,兼具优异的低频磁场屏蔽能力与钣金加工的结构灵活性。本公司产品涵盖含镍80%(典型牌号1J79/1J85)和含镍48~50%(典型牌号1J50)两大材质系列,常用厚度包括1.0mm1.5mm2.0mm3.0mm,可按客户图纸定制加工,适用于半导体制造设备中真空腔体屏蔽内衬、精密传输部件屏蔽支架、光刻机高压电源屏蔽结构等场景。

 

核心特性:

高初始磁导率(80%镍材质尤高),对半导体设备中低频杂散磁场具有优异的吸收与旁路能力,有效衰减电源低频辐射,屏蔽效能可与高导电率外层配合提升至40dB以上;

高镍材质(80%镍)近零磁致伸缩,屏蔽件在磁化过程中尺寸变化极小,适合精密装配与高稳定性要求的半导体设备场景;

优良的钣金加工塑性,支持激光切割、数控冲压、折弯、拉伸、焊接等多种成形工艺,可制作复杂屏蔽腔体与结构支架;

经氢气退火处理消除加工应力,恢复材料最佳磁性能,确保屏蔽效果稳定可靠;

尺寸精度高,可按客户图纸定制,满足半导体设备批量化生产及精密组装要求。

 

主要用途:

光刻机高压电源屏蔽结构内层,利用坡莫合金的低频磁场屏蔽能力衰减电源内部低频辐射,与高导电率外层形成复合屏蔽体系,保障光刻精度;

离子注入机、晶圆检测设备真空腔体内部屏蔽支撑支架,兼具磁屏蔽与结构定位功能,防止外部磁场干扰离子束或检测信号;

半导体制造设备精密传输部件的磁屏蔽结构件,用于晶圆传输机械臂、精密定位机构等组件的局部磁防护;

高精度电子束曝光机屏蔽腔体内部部件,为电子束路径提供无磁干扰环境,确保曝光精度;

半导体设备敏感电子模组的磁屏蔽外壳,用于保护内部传感器、信号处理电路免受设备自身及环境杂散磁场干扰。



产品类型

钣金加工型

产品规格型号表

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