本产品采用高品质坡莫合金制造,经高精度数控加工与超精密镜面抛光工艺处理,呈现出如镜面般光洁无瑕的表面质感。该组件专为要求严苛的高科技领域设计,在提供极致磁屏蔽性能的同时,兼具卓越的耐腐蚀性与现代工业审美。
核心特征:
1. 极致镜面工艺,零应力表面
通过多道粗磨、精抛及光整工序,产品表面粗糙度(Ra)可达0.05μm以下,达到镜面级水准。这种高光洁度不仅提升了视觉效果,更重要的是消除了微观表面的机械应力集中点,显著增强了材料在严苛环境下的抗疲劳强度和抗微裂纹能力,防止磁性材料内部应力分布不均导致磁导率下降。
2. 卓越的磁屏蔽效能(高导磁率)
采用高镍含量(约80%)坡莫合金材质,具有极高的初始磁导率(μi)和最大磁导率(μmax)。此结构设计能有效吸收并引导外界杂散磁场,为内部精密电子元件打造近乎无磁的“静音”空间,确保设备在弱磁场环境下稳定工作。
主要用途:
高端电子与传感器:用于精密磁阻传感器、霍尔元件、磁通门传感器的外壳或内衬,消除地磁场及环境杂散干扰。
医疗成像设备(MRI/核磁共振): 作为局部磁屏蔽组件,保护敏感电子电路,防止外界干扰影响成像质量。
航空航天与国防:用于航天器电子仪器舱的磁屏蔽罩,抵御太空辐射带来的磁干扰。
精密测量仪器:应用于高精度电流互感器、非接触式测量设备的屏蔽隔断,确保微弱信号读取准确。
半导体制造设备:作为电子束曝光机、离子注入机等设备中关键真空腔体的内部屏蔽部件。

镜面加工
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